芯研所5月21日消息,最新消息稱,荷蘭ASML正在研發新款光刻機,價值高達4億美元(約合26億元人民幣),雙層巴士大、重超200噸。原型機預計2023年上半年完工,2025年首次投入使用,2026年到2030年主力出貨。
芯研所采編
這款機器應該指的就是High-NA EXE:5200(0.55NA),Intel是全球第一個下單的公司。所謂High-NA也就是高數值孔徑,2nm之后的節點都得依賴它實現。
在ASML公布的今年一季度財報中,EXE:5200已經訂出去不止一臺。按計劃,第一臺原型試做機2023年開放,預計由imec(比利時微電子研究中心)裝機,2025年后量產,第一臺預計交付Intel。實際上,ASML的EUV光刻機非常龐大,現售的0.33NA EUV光刻機擁有超10萬零件,需要40個海運集裝箱或者4架噴氣貨機才能一次性運輸完成,單價1.4億美元左右。
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關鍵詞: ASML,EUV,光刻機
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